ReVera 全自動XPS膜厚濃度測定装置 300mmウェハ対応機

ReVera 全自動XPS膜厚濃度測定装置 300mmウェハ対応機

最先端半導体製造プロセスにおいて、より微細化・複雑化していく積層薄膜構造、組成のプロセス管理を容易にします。
非破壊のX線光電子分光(XPS)と低エネルギー蛍光X線(LE-XRF)をベースとし、20nmノード以降の計測技術に対処します。

超極薄膜(~最大10nm)の膜厚、元素濃度分布、組成比のインラインモニタリングを実施します。

FinFETのHKMG(High-K Metal Gate)、配線プロセス及び最先端メモリに新たなソリューションを提供します。

複数情報の同時測定

●各層の膜厚とマッピング
●各元素濃度とマッピング(N,O,F,C, Si, High-k材料など)
●元素結合組成比とマッピング
●元素プロファイルの測定とマッピング

ReVeraデータ

ReVeraデータ

300mmウエハー測定マップ例

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